本文作者 仗剑观星
2026年6月底，一则“日本四大光刻胶巨头同步断供中国”的消息，席卷全网。
根据这个消息，日本光刻胶四大天王——东京应化、JSR、信越化学、富士电子正式宣布停止接受中国的光刻胶新订单，驻华技术团队全数撤离。
自媒体圈瞬间炸锅，业内行情也是一片波动。
但有意思的是，这个消息的信源全部来自自媒体，官媒没有确认，四家日本光刻胶企业也没有相关信息披露。
那日本到底断没断供中国的光刻胶？
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经历了俄乌战争考验的我们，现在都知道了一句话，战报可能会撒谎，但战线不会。
日本断没断供中国光刻胶，看看数据就知道。
只要去海关总署在线查询平台，输入HS编码3707909010（光刻胶类别），真相一目了然。
2026年1到5月，中国从日本进口的半导体光刻胶总量不仅没有跌，反而达到了2.11万吨，同比甚至还微增了一点点。
图片来自电脑报少年派
有人可能会觉得，断供令是6月发布的，1-5月份的数据有啥说服力？
别急，我们不妨再看看去年12月的一则传闻。
2025年12月1日，《亚洲商务日报》发表了一则新闻，说中国最担心的局面出现了，日本停止光刻胶出货，韩国获得潜在机遇。
报道中的说法，几乎和这次的消息一模一样，就是日本断供中国光刻胶。
这个消息散布很广，以至于今年1月《中国日报》专门发文回应，主要观点是中国对日本光刻胶断供并不紧张，目光转向国产替代。
但奇怪的是，1-5月中国光刻胶进口量不降反增。
那么问题出在哪里呢？是市场想靠编造小作文行情出货，还是自媒体炒作博流量呢？
这就有必要深入扒一下了。
首先我们要澄清一个事实，起码到现在为止，光刻胶并不在日本的禁运名单里。
无论是日本经产省23种先进半导体制造设备管制令，还是半导体相关物项实施出口管制令，多集中在设备和芯片领域，光刻胶这个大类，并没有被明确“禁运”。
这一点，从今年1-5月中国增加的进口量，就能看得出来。
不过要说日本人没在光刻胶上对中国进口施加限制，也不客观。
首先就是审批。
2025年11月，日本修订《出口贸易管理令》，将ArF和EUV光刻胶纳入出口管制清单，实施“逐案审批”制度，审批周期从30天延长至90天。
与此同时，约110家中国半导体企业被列入重点核查清单，需提交最终用途追溯报告。
2025年12月30日，东京应化等日企，又主动把i线和KrF光刻胶的审批周期，延长到最长90天。
日本的心思非常明确，不直接断供，而是通过制造不确定性，让你干等着，打乱中国晶圆厂的扩产节奏。
其次是高端光刻胶的事实断供。
光刻胶这个东西，按技术难度从低到高，大体上分为G线/I线、KrF（氟化氪）、ArF（氟化氩），以及最顶尖的EUV（极紫外）光刻胶。
G线、I线光刻胶属于入门级，技术难度最低，主要用于90nm及以上成熟老工艺，技术不先进，不过做一些IGBT、MOS管、新能源车电控芯片也够了。
KrF光刻胶属于中端主力，难度中等，适配制程250nm~90nm，主要拿来造NAND闪存、DRAM内存等，现在市面上绝大多数消费级存储芯片，生产都离不开KrF胶。
ArF光刻胶就属于高端光刻胶了，适配制程65nm，并可以一直下探至14nm先进制程，是28nm国产芯片核心耗材，中国现在用多重曝光技术制造7nm芯片，用的就是ArF光刻胶。
剩下的就是EUV极紫外光刻胶了，EUV光刻机专属配套，生产极难，日本几乎垄断所有市场。
从目前来看，中国EUV光刻机还没突破，不进口EUV倒也正常，但次一级的ArF光刻胶，在1-5月份新增订单也几乎归零，少量报关的都是之前的存量订单。
也就是说，虽然中国光刻胶的进口量还在增加，但都是低端光刻胶，高端光刻胶基本在事实上断供了。
这里面，固然有美伊战争导致光刻胶关键原材料断供、福岛地震导致光刻胶减产等因素，但有没有政治因素？你猜？
第三，撤人。
高端光刻胶进口少了，原来的驻厂工程师，自然也要撤走。
光刻胶这个东西，不是你在超市买瓶酱油，拿回家倒进锅里就能用。
每一批次的光刻胶倒进光刻机，都需要原厂的工程师配合晶圆厂的技术人员，一起做调试、配方适配。
机台的温度差个零点几度，湿度的微小变化，都可能导致良品率暴跌。
看到这里，大家恐怕也就明白这次的“断供迷局”是咋回事了。
日本收紧对华光刻胶管制，早在去年就开始了，不是什么新鲜事，只是今年6月突然被自媒体曝出来而已。
更为合理的理解是，从去年年底日本调整管制政策后，日本企业根据政策逐步收紧执行，直到基本停止对华供应高端光刻胶的新订单审批，但没有“官宣”断供光刻胶，然后被自媒体编了一个6月22日的时间节点，引爆了舆论。
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日本对华光刻胶管制，显然不是单纯的市场因素，那中国应该怎么应对？
我们不妨先回顾一下当年韩日的光刻胶大战。
2018年下半年，韩国大法院做出判决，要求日本的新日铁住金和三菱重工，必须为二战期间强征的韩国劳工进行赔偿。
为了对日本施压，韩国法院甚至扣押了这些日本财团在韩国境内的资产，准备强制拍卖变现。
日本那边，当然瞬间炸锅。
在日本人看来，日韩历史问题不是在朴正熙时代都解决了吗？当年日本给了朴正熙8亿美元，换取了朴正熙在《日韩请求权协定》上签字，至此韩国国家主体彻底放弃向日本政府提出的一切官方索赔，怎么现在又要赔钱了？
但韩国人也有理由，我在国家层面是放弃了，但这是民间层面的诉求啊！你该赔还是要赔！
当时的日本首相安倍晋三很清楚，跟韩国人掰扯历史纠葛毫无意义，必须想个办法让韩国人服软。
于是，日本经产省的官僚很快就拿出了一个报复方案：断供光刻胶。
1970年代是日本半导体最辉煌的年代，日本借此积累了大量半导体技术，其中就包括光刻胶。
后来虽然芯片产业逐渐走向全球分工，但化工厂难以搬迁，于是就留在了日本。
久而久之，日本把持了全世界70%以上的光刻胶专利和90%以上的高端光刻胶产能，只要是做半导体，都离不开日本。
巧了，韩国的支柱产业，就是半导体。
韩国半导体水平不低，制程仅次于台积电，EUV光刻机也不缺，唯独缺光刻胶。
安倍晋三一声令下，将韩国从贸易便利化“白名单”中剔除，对EUV光刻胶实施90天的逐案审批。
这一下子，韩国傻了，当时三星正准备用来在7纳米先进制程上跟台积电决一死战，突然光刻胶断供了，咋办？
韩国的储备只有两个星期，也就是说，只要断供超过两个星期，韩国半导体产业就会全面瘫痪。
文在寅也不会轻易低头，于是，一个可以低头的人出场了——三星太子李在镕。
2019年7月1日管制令生效，7月7日李在镕直飞东京，开始了自己的游说之旅。
整整六天时间，李在镕每天晚上都通过各种极其隐秘的渠道，去拜访日本的金融寡头、商界大佬，还专门去找了三菱商事高管安倍宽信。
这个安倍宽信，就是安倍晋三的亲哥哥。
据说李在镕在日本开出了丰厚的条件，愿意以高于市场几倍的价格锁定产能，甚至愿意在其他商业领域做出让步。
不过呢，一点用也没有。
安倍晋三要的不是一点商业利益，而是要文在寅永远不要再拿二战赔偿说事，而这个问题，李在镕根本做不了主。
7月12日，李在镕黯然返回汉城，7月13日召开三星全产业链高管紧急会议，通报斡旋成果：
利用三星在海外的分支机构，从海外高价搞一些光刻胶现货先解燃眉之急。
日本方面对此睁一只眼闭一只眼。
但问题在于，三星产线每天都要用几吨光刻胶，海外那点量，怎么可能够用？
这样一来，文在寅就被逼到了墙角。
低头，意味着向日本人投降，会被韩国民众唾骂；不低头，韩国经济眼看就要完蛋。
最后，文在寅还是选择了硬刚。
他在全国电视讲话中向全体国民宣告：“我们绝不会再输给日本！”
然后，文在寅政府启动了被称为“半导体独立战争”的“MPE 2.0”计划。
在这个计划中，韩国政府每年砸上万亿韩元的财政补贴，鼓励光刻胶研发，并逼着三星、SK海力士开发测试产线。
整个韩国的情绪被彻底点燃了，大街上全都是抵制日货的横幅，超市里日本啤酒被下架，日本大使馆门口扔着切下来的手指头。
在这种氛围下，韩国光刻胶企业确实爆发出了惊人的战斗力，比如三星联合东进世美肯启动EUV光刻胶联合开发，依托三星华城EUV产线做上机测试，开始疯狂攻坚高端光刻胶。
2024年底，韩国自研金属氧化物MOR型EUV光刻胶通过三星全流程可靠性测试。
看起来，这似乎是一个韩国不畏日本卡脖子，绝地反击的爽文。
但是想多了，这个世界哪有那么多爽文。
哪怕到现在，韩国还在依赖日本光刻胶。
为啥？“能用”和“好用”之间，距离太大了。
也许在落后制程上，韩国可以用国产光刻胶，但在最先进的7nm、5nm产线上，韩国人依然不敢轻易上国产货。
因为良品率一旦波动，损失都是以亿为单位计算的。
那最后这场光刻胶风波是怎么收场的？还是韩国作出了让步。
尹锡悦在对日索赔问题上松口，搞出一个屈辱的“韩国民间基金会自己筹钱替日本赔偿”的方案，换来了日本逐步解禁光刻胶。
韩国轰轰烈烈的半导体独立战争，就这么以一种无厘头的方式结束了。
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那么，中国会不会重蹈韩国覆辙呢？
不会。
中国是一个拥有全球最完整工业门类，而且已经和美国打了八年科技战的国家。
日本为啥能垄断光刻胶产业？
不是因为日本人技术有多先进，完全是因为日本人起步早，工程经验丰富，垄断大量专利。
首先我们要明确一点，光刻胶市场规模并不大，全球光刻胶销售额也就20多亿美元。
但反过来，研发光刻胶的投入却很大，不仅需要挨个尝试树脂、光酸和添加剂的配比，而且还需要上机台试验，失败一次，不仅几十万的化工料废了，几百万一炉的晶圆也废了。
所以光刻胶就跟笔尖钢一样，不是大家搞不出来，而是投资回报率有限，很难吸引到资本长时间投入攻关。
其次，光刻胶也不是一家就能生产的，需要依赖化工配套。
可是国内光刻胶产业都是低端的，又怎么能指望化工厂去生产聚甲基丙烯酸酯类树脂这种高端原材料呢？
第三，光刻胶的研发，和光刻机的制程直接相关。
光刻机和光刻胶的关系，可以简单理解为笔芯和油墨的关系，什么样的笔芯用什么样的油墨，都是一一对应的。
你连EUV光刻机都没有，就算投入巨资研发了EUV光刻胶，上哪测试呢？又卖给谁呢？
这个时候，光靠市场规律就不行了，还需要政策的支持。
看过《中国芯片往事》的都知道，中国为了突破芯片困局，搞了个大基金计划。
大基金发展到现在，已经到了三期了。
一期二期解决的主要是“有没有厂”和“有没有设备”的问题，而三期的重点，是补盲点、填死角，三期有70%资金直接投给半导体设备和材料，而光刻胶作为材料板块优先突破的短板，自然从中受益。
这就相当于国家在告诉那些光刻胶企业：你尽管放手去研发试错，失败了算我的！
为了解决晶圆厂不敢用的问题，国家也有相应的政策。
从2025年开始，财政部和地方政府直接拿出了真金白银的补贴，比如上海等地出台政策，晶圆厂只要采购国产光刻胶，政府直接给你补贴10%甚至更高。
同时，国家对晶圆代工企业进行验收和审批时，也把“国产材料渗透率”变成了硬指标。
双管齐下之后，中国光刻胶企业终于熬过了至暗时刻，已经开始了技术反攻。
那么问题来了，现在中国光刻胶产业真实水平如何呢？
一句话概括：低端起飞，中高端刺刀见红，极高端正处于黎明前夜。
这里我们只说半导体光刻胶，就不说PCB光刻胶了，因为PCB光刻胶国产化率已经干到了95%以上，可以毫不夸张地说，日本人已经彻底出局了。
G线和I线也取得重大突破，2015年国产化率还是零，现在全市场（6寸+ 8寸+低端12寸）国产化率达到60%以上，功率、分立器件产线已大规模国产替代，而12英寸高端成熟制程光刻胶国产化率，也达到了20%–25%！
再就是中端的KrF光刻胶。
KrF光刻胶的国产化率目前不到5%，但北京科华、徐州博康、晶瑞电材已经实现稳定量产，已经与多个晶圆厂签订数亿元长协。
像北京科华不仅搞出了KrF光刻胶，还打通部分上游关键环节，PHS树脂、甲酚甲醛树脂等原材料100%自研自产。
以前一些中国企业造光刻胶，也许配方不错，但树脂、感光剂、光刻胶溶剂等关键原材料仍要进口，但大家想想，万一日本人把树脂也断供了咋办？
所以北京科华直接砸重金，在上海化工园区自己建了甲酚甲醛树脂和PHS树脂产线。目前，他们的KrF光刻胶成本比日本货便宜了整整35%，已经成了国内大厂核心供应商。
当然，在ArF配套PH丙烯酸树脂、高端光酸等原材料上，中国目前还依赖进口，这是需要正视的短板。
接着往上走，就是ArF光刻胶了，特别是浸没式ArF。
这是14纳米到7纳米制程的绝对主力，也是全球最赚钱的品种。
曾经，这个领域中国完全是空白，但现在，窗户纸已经捅破了。
这就不能不提南大光电了。
截至目前，南大光电是国内唯一一家真正实现ArF浸没式光刻胶商业化规模量产，并且给头部晶圆厂稳定供货的企业。
他们的6款ArF产品，在三大头部12英寸晶圆厂全部通过了极其严苛的全流程验证，完全可以替代日本光刻胶！
现在，南大光电的产能只有50吨，还不能满足全国需求，但不要急，南大光电宁波北仑二期ArF光刻胶项目已经投产，产能爬坡完成后，产能将达到500吨/年。
等这500吨产线成熟后，意味着中国所有DUV光刻机，基本不再缺光刻胶用了！
这就是为什么日本人现在很着急的原因，中国工业克苏鲁的产能一爆发，就没日本人什么事了。
最后，就是最最最高端的EUV光刻胶了。
目前，EUV光刻胶国内无任何量产、无晶圆厂上机验证、无商用产品，全部成果停留在实验室样品阶段，落后日本五年以上。
不过呢，中国有自己的办法。正常跑道追不上，我换条道不就完了？
我们都知道，EUV光刻机光源波长极短，只有13.5纳米。
到了这个水平，传统的光刻胶高分子材料根本不吸光，EUV光线打上去就像打在透明玻璃上一样，直接穿过去了，没法实现光刻。
这很容易理解，你拿一个手电筒照射鱼缸，光很容易就穿过去了。
但如果你在鱼缸里面倒一杯牛奶，那牛奶里面的小颗粒就会吸收并反射光，整个鱼缸都亮了。
为了解决这个问题，日本人在光刻胶里加了锡元素，锡的极紫外光吸收率还不错，把它做成金属敏化团簇掺进去，可以有效提升光刻胶的性能。
不过呢，锡基路线也走到头了。
也许7nm没啥问题，但到了3nm，因为其分布不均匀，光打上去，刻出来的电路边缘就会出现毛刺，行业里管这叫“线边缘粗糙度大”和“随机缺陷”。
为了修补这些毛刺，日本人只能不停地搞化学放大，工序繁琐不说，良品率还低。
2025年7月，清华大学化学系许华平教授团队提出了一个新想法，不加锡怎么样呢？
他们搞出了一种全球首创的新材料——基于聚碲氧烷的新型光刻胶，把锡换成了碲。
碲的吸光能力不仅远超锡，更关键的在于，碲氧键的解离能特别低，根本不需要像锡基光刻胶那样再加什么乱七八糟的化学放大剂去催化。
这样一来，随机缺陷问题就从根子上解决了。
根据实验数据，哪怕在13.1mJ/cm²的极低曝光剂量下，就能清晰地刻出18纳米线宽，线边缘粗糙度被压到了1.97纳米。
只要我们的EUV光刻机取得突破，光刻胶的配套也会跟上，3nm乃至2纳米制程，指日可待。
业界普遍认为，配合大基金三期资金和九峰山国家级工艺验证平台，中国EUV光刻胶在未来三到五年内跑出量产的黑马，已经是必然的结果。
所以中国这种模式，和韩国那种企业单打独斗不一样。
在中国光刻胶企业背后，站着整个中国化工产业链，做光引发剂的，做高纯酚醛树脂的，做电子级特气的……这一整套上游原材料方阵，是中国光刻胶突破的最大底气。
当然，技术突破了，剩下的就是用的问题。
中国光刻胶最大的问题，不是技术问题，而是没人愿意用的问题。
晶圆厂是要做生意的，一台光刻机十几个亿，一条产线几百亿，你让他用一款没经过历史检验的国产胶？
万一里面有个千分之一的杂质，把光刻机镜头污染了，或者导致整炉芯片良率暴跌，这个责任谁背？
所以以前国内晶圆厂对国产光刻胶的态度是，热烈欢迎，但就是不敢用。
但现在日本管控光刻胶，进口光刻胶用不了了，不用国产的也不行了。
2025年10月，中国出台了自己的《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》国家标准（征求意见稿），本质上就是解决晶圆厂的顾虑。
国家下场搭台子，把科研机构、晶圆代工厂、材料企业拉到一起，造出了一个属于中国本土的协同验证生态。
有了国家标准和验证平台，晶圆厂的态度，就从“不敢用”变成了“必须用”。
国内某头部光刻胶企业一位技术高管直言：“以前是我们追着晶圆厂上机试用，现在是产线拉着我们连夜对配方。”
这不是和国产GPU产业一样吗？
以前大家的大模型都跑在英伟达平台上，适配国产平台需要大量的资金和时间，不逼到一定份上，没人愿意去适配。
但美国一断供，国内企业只能硬着头皮上，大家用习惯了就好了。
有时候啊，你不去逼一逼，光靠资本自己的主动性，是不够的。
所以，日本这次管制中国光刻胶，短期看是卡了中国脖子，但长远看，是为中国光刻胶产业送来了一次神助攻。
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透过这场光刻胶暗战，我们不难看出，在产业的博弈中，绝对的封锁，可能意味着绝对的突围。
过去几十年，西方世界之所以能躺在高端产业链上吃香喝辣，靠的不是他们比我们聪明，而是一直在玩倾销与垄断。
你起步的时候，他们用成熟的产品供你，让你养成习惯。
你做大了，他们再用专利和断供来卡你的脖子。
这套玩法，在无数国家屡试不爽。
但现在，这一套玩法玩不下去了。
如今的中国，是一个拥有全球最全工业门类、最庞大工程师红利，且具备国家意志的超级大国。
对中国断供，本质上是一场战略自杀。
想想特高压、盾构机的突围，想想预警机、光伏的突围，不都是这么走过来的吗？
所以，这场所谓的断供危机，不是中国半导体的末日，而是我们全面接管高端制造的成人礼。
归根到底，光刻胶这玩意还是个工业品，和稀土还不一样。
中国技术突破了，就能源源不断生产出光刻胶。
如果日本能源源不断地生产和提炼出稀土，现在何必急得拆空调？
日本现在的做法，是在用一个岛国的资源腾挪能力，去跟一个拥有全产业链的工业巨兽比拼“卡脖子”能力和防封锁能力。
说到这里，我都有点期待了，特别想知道：
到底是日本的稀土“去中国化”跑得快，还是中国光刻胶的“去日本化”跑得快？